高低溫循環一體機CHGD-10200-30低溫水浴鍋

高低溫循環一體機CHGD-10200-30低溫水浴鍋

高低溫循環一體機采用無氟制冷技術，經過多年試驗研發而成，具有加熱和制冷功能，是理想的高精度恒溫源。高低溫循環一體機適用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門、高等院校、企業質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個冷熱受控，溫度均勻恒定的液體環境。可用于直接加熱或制冷或作為輔助加熱或制冷的溫度來源,如對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫.

技術參數：

高低溫循環一體機CHGD-10200-30低溫水浴鍋

低溫恒溫槽精密恒溫控制系統，整個量程范圍的溫度精確可控，噪音低，制冷效率高。其它制冷關鍵配件也采用全進口配件；制冷系統具備高壓保 護器，確保制冷系統安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環攪拌，溫場均勻，*泄漏，傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能，確保儀器絕對安全運行。
    低溫恒溫槽可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源。低溫恒溫槽裝置內置新一代溫度控制程序，確保設備運行穩定，全封閉壓縮機組制冷，制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置。
    低溫恒溫槽可以把槽內被恒溫液體外引，建立第二恒溫場，槽內冷液可外引，冷卻機外實驗容器，也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗，采用模擬數字PID自動控制系統，溫度數字顯示，內膽、臺面均為全不銹鋼，清潔衛生，美觀耐腐蝕。低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環應用。

操作使用說明：

1)不管是風冷式還是水冷式，溫控裝置都需位于一個擁有足夠新鮮空氣的操作環境：周圍大于30cm的空間。
2) 選擇導熱介質的時候，需注意它的溫度上限和下限，燃點，粘度，冰點等是否符合要求，以及是否適合儀器內部管道的使用；
3) 選擇輸導熱介質管時，長度應盡可能短，直徑盡可能大，若直徑太小，有可能造成限流；
4) 請勿使用水作為導熱介質；
5) 不合適的導熱介質將對儀器設備產生負面影響，并且有可能對裝置造成損壞。因此只能使用廠家規定的導熱介質并且在規定的壓力范圍內使用。
6) 灌裝后必須重新設置設備調節參數，這是正確操作和使用儀器的要求；
7) 請勿把制冷加熱一體機導熱介質管路打結；
8) 定期檢查輸導熱介質管，以免出現材料的勞損（如：裂變）。
9) 警告：為了避免損壞儀器的管路，請在使用礦物質含量高的水時，要定期使用水處理化學品進行清理管路污垢。（水冷儀器設備）